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    芯片清洗用超純水設備

    文章出處:超純水設備作者:重慶水處理工程師發表時間:2015-11-12 18:20

      現代社會的電子行業在飛速的發展,行業中對芯片清洗用水的要求也在不斷的增高。芯片的質量越高,對水質的要求也就越嚴格。芯片清洗用超純水設備是根據行業中生產的特殊要求設計研發的新型設備。用戶可以根據自己的實際情況調整設備的實際出水量。芯片清洗用超純水設備品質保證,性能穩定。

      萊特萊德重慶水處理設備公司專業生產軟化水設備、礦泉水設備、除鹽水設備、超純水設備、純凈水設備等,我們的目標是給用戶提供值得信賴的工程設計和技術支持,提供可靠、高性價比的系統解決方案。


    芯片清洗用超純水設備

      芯片清洗用超純水設備制備工藝

      1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

      2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥18MΩ.CM)

      3、預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥17MΩ.CM)

      4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)

      5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象(≥15MΩ.CM)


     

      芯片清洗用超純水設備主要配置

      1、預處理系統:原水箱(選配)、原水箱液位、控制器、原水進水、電磁閥、原水泵、多介質過濾器、活性炭過濾器、全自動軟水器、管路、閥門。

      2、RO反滲透系統:一級高壓泵、二級高壓泵、一級反滲透膜、二級反滲透膜、反滲透膜殼、膜架、控制系統、進水電磁閥、沖洗電磁閥、調壓閥、高壓開關、低壓開關、精密過濾器。

      3、儲存系統:液位控制器中間水箱純水箱。

      4、IX離子交換系統:給水泵、再生泵、樹脂容器、離子交換樹脂、管路、閥門、機架。

     

      芯片清洗用超純水設備發展史

      第一代:預處理-陽床-陰床-混床

      第二代:預處理-反滲透-混床

      第三代:預處理-反滲透-電去離子(EDI)

      反滲透+EDI超純水設備:反滲透裝置去除水中的溶解性鹽類物質、細菌、熱源等,然后使用連續電除鹽裝置進行深度脫鹽,使產水電阻率達到15MΩ.cm以上,再采用電子級純水樹脂精混床精除鹽,使產水電阻率達到18.2MΩ.cm,后處理采用紫外線殺菌器和精密過濾器隔絕細菌的二次污染,芯片清洗用超純水設備產水可達到國家電子級水的技術指標GB11446.1-1997。

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